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石材抛光

主要石材养护:大理石、水磨石、花岗岩、石材翻新、结晶护理、落差整平、无缝处理、石材防护、晶面抛光、日

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服务描述

主要石材养护:大理石、水磨石、花岗岩、石材翻新、结晶护理、落差整平、无缝处理、石材防护、晶面抛光、日常保养等工程。


石材抛光效果取决于两个方面:一是所采用的抛光技术即“后天”人为的外因;二是石材本身存在“先天”的内因。

如果不考虑石材本身所具有的内因,单就抛光工艺而言,影响石材抛光的几个主要因素是抛光剂的类型,抛光液(膏),抛光磨具,抛光盘(具、磨块)和抛光工艺参数。

(1)抛光剂的类型

抛光剂虽然是一种特殊的磨光材料,但它与磨削材料的区别主要是表现在加工机理上。原则上说,有一些低硬度的微粉材料也可做抛光剂使用。但通常高硬度的抛光剂比低硬度的好,且适用范围也广。金刚石抛光粉,对绝大多数石材的抛光,都能取得较为满意的抛光效果。

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(2)抛光液(膏)

水是常用的抛光液。它既可起磨削冷却的作用,又可作为抛光过程中物理作用和化学作用的介质。

若石材的抛光是以机械磨削作用为主,如金刚石微粉,抛光液一般用油类有机液体效果较好,如缝纫机油。其冷却、润滑和分散作用极好。

金刚石研磨膏,既有水质的,又有油质的,并且还可以加上着色剂。其配方为:磨料+分散剂+载体+水+着色剂。

(3)、抛光盘(具、磨块)

规格平整的石材光面板,是石材平面磨削的一种表达加工的表现形式,多采用含有金属材料制成的硬盘作抛光盘。软盘抛光的抛光面,在石材受压时易屈服成一凹面,适用于弧面型抛光。中硬盘的耐磨性,吸附性较好,并具有一定的弹性,对平面型石材抛光的效果也比较好。

(4)、抛光工艺参数

工艺参数有抛光剂的浓度和供给量,抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前,抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加,浓度值达最大之后,若再增加浓度,抛光速度反而降低。同样,抛光剂的供给量在一定值时,抛光速度最大,之后若继续增加供给量,抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力,可以增加抛光速度,但压力过大,磨削作用加强,不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘(具)的转速,但线速度过大,抛光剂将会被甩出,造成浪费。